Elaboration et étude de couches minces dures ti-cr-n déposées par pulvérisation cathodique magnétron

Une série de couches minces ý (Ti-Cr-N) ont été élaborés en utilisant le procédé de dépôt physique en phase vapeur PVD, ces couches minces ý ont été déposés sur des substrats d’acier de type AISI-D2 et sur des substrats de silicium (100). L’étude de l’effet du rapport Ar/N2 sur les propriétés ; structurales, morphologiques, mécaniques, tribologiques et de corrosion a était mis en évidence. Les résultats de caractérisation par MEB et DRX ont révélé l’existence de ; trois évolutions morphologiques par (Coalescence colonnaire, diffusion de surface et choc atomique) et trois évolutions structurelles (phases riches en éléments métalliques, multiplication de phases, et distorsion et désordre du réseau cristallin) respectivement, la composition chimique et la vitesse de dépôt sont les deux principaux générateurs de ces processus d’évolution de la morphologie et de la structure des couches minces ý (Ti-Cr-N). L’étude relationnelle entre les différentes propriétés qualitatives et quantitatives a montré que l’amélioration dans la dureté et le module de Young est due principalement à la densification de la structure, tandis que la résistance à l’usure et la résistance à la corrosion dépendent de la morphologie des couches minces ý issues du processus de croissance physique des couches minces ý (Ti-Cr-N)

Pulvérisation réactive